諾發(fā)系統(tǒng)有限公司日前為300mm晶圓工藝推出光刻膠干法去除系統(tǒng)中的產(chǎn)品GAMMA Express。GAMMA Express是同時(shí)適用于前段(FEOL)和后段(BEOL)工藝的單一產(chǎn)品平臺(tái)，它為65nm和45nm節(jié)點(diǎn)普通光刻膠去除和高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)提供了水平的技術(shù)、可靠性和生產(chǎn)力。

       “我們的客戶希望能夠?qū)⒐饪棠z干法去除技術(shù)延伸到更先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)，為此他們需要具有高度可靠性和高生產(chǎn)效率的新設(shè)備，”諾發(fā)公司表面整合技術(shù)部副總裁兼總經(jīng)理Damo Srinivas表示，“GAMMA Express建立在久經(jīng)生產(chǎn)考驗(yàn)的前幾代GAMMA平臺(tái)基礎(chǔ)上，能夠很好地解決更加先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)中所遇到的HDIS挑戰(zhàn)性難題，是在不犧牲可靠性和生產(chǎn)力的前提下適用于45nm節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的臺(tái)光刻膠干法去除設(shè)備。”

       目前，GAMMA Express正在亞洲一家很大的存儲(chǔ)器制造商那里進(jìn)行測(cè)試評(píng)估，預(yù)計(jì)將于2006年第四季度正式用于生產(chǎn)。市場(chǎng)的300mm GAMMA已經(jīng)在全球安裝了160多套系統(tǒng)，每個(gè)月可以處理1200萬(wàn)片晶圓。前10大半導(dǎo)體公司中有八家采用了該系統(tǒng)。

       與諾發(fā)的所有設(shè)備一樣，GAMMA Express為芯片制造商提供了的技術(shù)和的生產(chǎn)效率，為客戶在需要的地方提供了價(jià)值。為了滿足這些要求，GAMMA Express采取了以下措施：

·采用了硅損失量很低的離子注入光刻膠干法去除和非氧化性光刻膠去除化學(xué)試劑，以滿足先進(jìn)的金屬硅化物和超低介電常數(shù)薄膜的要求，此外還可以支持傳統(tǒng)的光刻膠去除、HDIS和C4包裝等應(yīng)用。GAMMA Express之所以可以應(yīng)用于多種場(chǎng)合是因?yàn)樗捎昧?個(gè)活性射頻(RF)平臺(tái)和量身定做的氣體分配系統(tǒng)。

·采用小接觸面(MCA)零部件將污染顆粒數(shù)目控制在個(gè)位數(shù)，以幫助客戶能重復(fù)地將缺陷水平控制在更低的程度。這些小接觸面零部件包括采用MCA盒子的載荷室、陶瓷質(zhì)的MCA傳輸?shù)镀⑴鋫銶CA手指的傳送軸桿、用于工藝、過(guò)刻蝕和預(yù)熱的MCA基座等。

·GAMMA Express具有很高的綜合生產(chǎn)力，它結(jié)合了新專利技術(shù)的射頻源和諾發(fā)多平臺(tái)順序處理(MSSP)架構(gòu)，每小時(shí)可以去除300多片普通光刻膠和150多片HDIS光刻膠。

·GAMMA Express采用了的直接驅(qū)動(dòng)晶圓傳送系統(tǒng)、更加容易維護(hù)的開放式新架構(gòu)，再加上諾發(fā)遍布全球的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，因此具有很高的可正常工作時(shí)間－平均離線時(shí)間(MTOL)很短、平均無(wú)故障間隔時(shí)間(MTBF)很長(zhǎng)。在全球30多個(gè)零部件儲(chǔ)備中心和服務(wù)中心的支持下，諾發(fā)能夠很快地獲取所需零部件和各種分析工具。此外，每天24小時(shí)諾發(fā)都可以提供硬件、工藝和軟件專家的支持，幫助客戶進(jìn)一步降低風(fēng)險(xiǎn)和提高生產(chǎn)效率。