針對目前設(shè)計(jì)人員對現(xiàn)有EDA工具流程改革的排斥態(tài)度，DFM工具供應(yīng)商Aprio Technologies Inc.提出了新的解決方案——應(yīng)用擴(kuò)展Halo-Quest，以適合EDA設(shè)計(jì)和分析工具，生成IC設(shè)計(jì)精確的硅圖像描述。

Aprio策略的關(guān)鍵所在是所謂的DFM視角，它收集了以制造為中心的物理IC設(shè)計(jì)變量，包括原始版圖、硅片印刷版圖及能識別潛在光刻“熱點(diǎn)”的系列錯(cuò)誤矢量。通過DFM視角，Halo-Quest能為用戶提供在現(xiàn)有設(shè)計(jì)工具下改進(jìn)良品率和性能可預(yù)測能力所需的信息。

Aprio表示該公司已將Halo-Quest與幾種EDA應(yīng)用相端接。

盡管主導(dǎo)EDA供應(yīng)商視Aprio為競爭威脅，拒絕與Aprio合作，但業(yè)內(nèi)轉(zhuǎn)向OpenAccess，這種情況的出現(xiàn)有望終扭轉(zhuǎn)局面，因?yàn)锳prio將能提供Halo-Quest與基于OA的工具之間的接口。

采用Halo-Quest的初產(chǎn)品預(yù)計(jì)第四季度上市。價(jià)格信息沒有披露。