SEZ推出單晶圓FEOL解決方案
更新時間： 2006-07-28 09:16:17來源： 粵嵌教育瀏覽量：730
SEZ(瑟思)集團近日宣布，己開發(fā)出新型化學制程，將極大地改善前段制程(FEOL)中的光阻去除制程。SEZ的專有技術(shù)Enhanced Sulfuric Acid(ESA)去除制程能夠利用一系列以硫酸為主的化學試劑，極大地縮減了目前在光阻去除機或者批式環(huán)境中實施的光阻去除制程的步驟。
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