楊智

       諾發系統有限公司近日為300mm晶圓工藝推出該公司在市場上的光刻膠干法去除系統中的產品GAMMA Express。GAMMA Express是同時適用于前段(FEOL)和后段(BEOL)工藝的單一產品平臺，它為65nm和45nm節點普通光刻膠去除和高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)提供了水平的技術、可靠性和生產力。
　　目前，GAMMA Express正在進行測試評估，預計將于第四季度正式用于生產。